Atomic/molecular layer deposition: A direct gas-phase route to crystalline metal-organic framework thin films

Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

Tutkijat

Organisaatiot

Kuvaus

Atomic/molecular layer deposition offers us an elegant way of fabricating crystalline copper(ii)terephthalate metal-organic framework (MOF) thin films on various substrate surfaces. The films are grown from two gaseous precursors with a digital atomic/molecular level control for the film thickness under relatively mild conditions in a simple and fast one-step process.

Yksityiskohdat

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut1139-1142
Sivumäärä4
JulkaisuChemical Communications
Vuosikerta52
Numero6
TilaJulkaistu - 2016
OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

Lataa tilasto

Ei tietoja saatavilla

ID: 1418536