Atomic layer deposition of ytterbium oxide using ß-diketonate and ozone precursors

M. Bosund, K. Mizohata, T. Hakkarainen, Matti Putkonen, M. Söderlund, S. Honkanen, H. Lipsanen

    Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

    15 Sitaatiot (Scopus)
    AlkuperäiskieliEnglanti
    Sivut847-851
    Sivumäärä5
    JulkaisuApplied Surface Science
    Vuosikerta256
    Numero3
    DOI - pysyväislinkit
    TilaJulkaistu - 15 marraskuuta 2009
    OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

    Tutkimusalat

    • atomic layer deposition
    • Refractive index
    • TOF-ERDA
    • X-ray diffraction
    • X-ray reflectivity
    • ytterbium oxide

    Siteeraa tätä