Atomic layer deposition of iridium(III) acetylacetonate on alumina, silica-alumina, and silica supports

Riitta Silvennoinen, Olli Jylhä, Marina Lindblad, Jani Sainio, Riikka Puurunen, Outi Krause

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

35 Sitaatiot (Scopus)
AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut4103-4111
JulkaisuApplied Surface Science
Vuosikerta253
Numero9
TilaJulkaistu - 2007
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Tutkimusalat

  • alumina
  • atomic layer deposition (ALD)
  • iridium
  • silica
  • silica-alumina

Siteeraa tätä