Atomic layer deposition of highly doped Er:Al2O3 and Tm:Al2O3 for silicon-based waveguide amplifiers

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussaKonferenssiesitys

Yksityiskohdat

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivumäärä98910Y
Sivumäärä1
TilaJulkaistu - 2016
OKM-julkaisutyyppiEi oikeutettu
TapahtumaConference on Silicon Photonics and Photonic Integrated Circuits - Brussels, Belgia
Kesto: 3 huhtikuuta 20167 huhtikuuta 2016
Konferenssinumero: 5

Conference

ConferenceConference on Silicon Photonics and Photonic Integrated Circuits
MaaBelgia
KaupunkiBrussels
Ajanjakso03/04/201607/04/2016

Tutkijat

Organisaatiot

  • University of Eastern Finland
  • University of Arizona

ID: 10727592