Atomic layer deposition of HfO2 thin films exploiting novel cyclopentadienyl precursors at high temperatures

Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

Tutkijat

  • J. Niinistö
  • M. Putkonen
  • Lauri Niinistö
  • F. Song
  • P. Williams
  • P.N. Heys
  • R. Odedra

Organisaatiot

Yksityiskohdat

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut3319-3324
JulkaisuChemistry of Materials
Vuosikerta19
Numero13
TilaJulkaistu - 2007
OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

ID: 2409776