Atomic layer deposition of HfO2 thin films exploiting novel cyclopentadienyl precursors at high temperatures

J. Niinistö, M. Putkonen, Lauri Niinistö, F. Song, P. Williams, P.N. Heys, R. Odedra

    Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

    52 Sitaatiot (Scopus)
    AlkuperäiskieliEnglanti
    Sivut3319-3324
    JulkaisuChemistry of Materials
    Vuosikerta19
    Numero13
    TilaJulkaistu - 2007
    OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

    Siteeraa tätä