Atomic layer deposition of HfO2 on graphene from HfCl4 and H2O

Harry Alles, Jaan Aarik, Aleks Aidla, Aurelien Fay, Jekaterina Kozlova, Ahti Niilisk, Martti Pärs, Mihkel Rähn, Maciej Wiesner, Pertti Hakonen, Väino Sammelselg

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

25 Sitaatiot (Scopus)
AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut319-324
Sivumäärä6
JulkaisuCENTRAL EUROPEAN JOURNAL OF PHYSICS
Vuosikerta9
Numero2
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 2011
OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

Tutkimusalat

  • atomic layer depostion
  • graphene
  • high-k dielectric thin films
  • nanoelectronics

Siteeraa tätä