Atomic Layer Deposition of Ga2O3 Films from a Dialkylamido-Based Precursor

Charles L. Dezelah IV, Jaakko Niinistö, Charles H. Winter, Lauri Niinistö

Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu

53 Sitaatiot (Scopus)

Alkuperäiskieli	Englanti
Sivut	471-475
Julkaisu	Chemistry of Materials
Vuosikerta	18
Tila	Julkaistu - 2006
OKM-julkaisutyyppi	A1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

Siteeraa tätä

@article{2f9965cd07994dc39c47c406c8e37a51,

title = "Atomic Layer Deposition of Ga2O3 Films from a Dialkylamido-Based Precursor",

author = "{Dezelah IV}, {Charles L.} and Jaakko Niinist{\"o} and Winter, {Charles H.} and Lauri Niinist{\"o}",

year = "2006",

language = "English",

volume = "18",

pages = "471--475",

journal = "Chemistry of Materials",

issn = "0897-4756",

publisher = "AMERICAN CHEMICAL SOCIETY",

}