Atomic Layer Deposition of Ga2O3 Films from a Dialkylamido-Based Precursor

Charles L. Dezelah IV, Jaakko Niinistö, Charles H. Winter, Lauri Niinistö

    Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

    48 Sitaatiot (Scopus)
    AlkuperäiskieliEnglanti
    Sivut471-475
    JulkaisuChemistry of Materials
    Vuosikerta18
    TilaJulkaistu - 2006
    OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

    Siteeraa tätä

    Dezelah IV, C. L., Niinistö, J., Winter, C. H., & Niinistö, L. (2006). Atomic Layer Deposition of Ga2O3 Films from a Dialkylamido-Based Precursor. Chemistry of Materials, 18, 471-475.