Atomic layer deposition of B2O3 thin films at room temperature

Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

Tutkijat

  • Matti Putkonen
  • Lauri Niinistö

Organisaatiot

Yksityiskohdat

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut145-149
JulkaisuThin Solid Films
Vuosikerta514
TilaJulkaistu - 2006
OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

    Tutkimusalat

  • Boron Oxide, Thin Films, Atomic Layer Deposition, ALD

ID: 2416318