Atomic layer deposition of B2O3 thin films at room temperature

Matti Putkonen, Lauri Niinistö

    Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

    49 Sitaatiot (Scopus)
    AlkuperäiskieliEnglanti
    Sivut145-149
    JulkaisuThin Solid Films
    Vuosikerta514
    TilaJulkaistu - 2006
    OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

    Tutkimusalat

    • Boron Oxide, Thin Films, Atomic Layer Deposition, ALD

    Siteeraa tätä