Atomic layer deposition of AlN from AlCl3 using NH3 and Ar/NH3 plasma

Ville Rontu, Perttu Sippola, Mikael Broas, Glenn Ross, Harri Lipsanen, Mervi Paulasto-Kröckel, Sami Franssila

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

20 Sitaatiot (Scopus)
261 Lataukset (Pure)

Hakutulokset