Atomic layer deposition enhanced rapid dry fabrication of micromechanical devices with cryogenic deep raective ion etching

Nikolai Chekurov, Mika Koskenvuori, Veli-Matti Airaksinen, Ilkka Tittonen

    Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

    14 Sitaatiot (Scopus)
    AlkuperäiskieliEnglanti
    JulkaisuJournal of Micromechanics and Microengineering
    Vuosikerta17
    Numero8
    TilaJulkaistu - 2007
    OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

    Tutkimusalat

    • atomic layer deposition
    • cryogenic etching
    • fabrication
    • micromechanic

    Siteeraa tätä