Atomic layer deposition (ALD) technology: present status and future challenges

    Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussaConference contributionScientificvertaisarvioitu

    AlkuperäiskieliEnglanti
    OtsikkoFirst Joint Workshop/Symposium of GUCAS and Finnish Graduate Schools in Beijing, May 20-22, 2009, Beijing, China
    TilaJulkaistu - 2009
    OKM-julkaisutyyppiA4 Artikkeli konferenssijulkaisuussa

    Siteeraa tätä