Atomic layer deposition (ALD) technology: present status and future challenges

Maarit Karppinen

    Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Conference article in proceedings › Scientific › vertaisarvioitu

    AlkuperäiskieliEnglanti
    OtsikkoFirst Joint Workshop/Symposium of GUCAS and Finnish Graduate Schools in Beijing, May 20-22, 2009, Beijing, China
    TilaJulkaistu - 2009
    OKM-julkaisutyyppiA4 Artikkeli konferenssijulkaisussa

    Siteeraa tätä