Atomic layer deposited aluminum oxide mitigates outgassing from fused filament fabrication–based 3-D printed components

Ismo T.S. Heikkinen, Giovanni Marin, Nupur Bihari, Craig Ekstrum, Pierce J. Mayville, Yuhuan Fei, Yun Hang Hu, Maarit Karppinen, Hele Savin, Joshua M. Pearce

Electron Physics Group (EPG)
Elektroniikan ja nanotekniikan laitos
Kemian ja materiaalitieteen laitos
Inorganic Materials Chemistry

Michigan Technological University

Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu

9 Sitaatiot (Scopus)

156 Lataukset (Pure)

1 tulosta

Päättynyt
CloseLoop: Korkean jalostusarvon materiaalit suljetussa raaka-ainekierrossa
Karppinen, M. (Vastuullinen tutkija), Kauranen, P. (Projektin jäsen), Kousar, S. (Projektin jäsen), Madadi, M. (Projektin jäsen), Blomberg, T. (Projektin jäsen) & Heiska, J. (Projektin jäsen)
01/04/2016 → 31/08/2019
Projekti: Academy of Finland: Strategic research funding

Atomic layer deposited aluminum oxide mitigates outgassing from fused filament fabrication–based 3-D printed components

Projektit

Hakutulokset

CloseLoop: Korkean jalostusarvon materiaalit suljetussa raaka-ainekierrossa