Atomic layer deposited alumina (A12O3) coating on thin film cryoresistors

Ossi Hahtele, Alenxandre Satrapinski, Päivi Sievilä, Nikolai Chekurov

    Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussaConference contributionScientificvertaisarvioitu

    2 Sitaatiot (Scopus)
    AlkuperäiskieliEnglanti
    OtsikkoConference Digest, CPEM 2008, Bloomfield, Colorado USA, 8-13 June
    Sivut272-273
    TilaJulkaistu - 2008
    OKM-julkaisutyyppiA4 Artikkeli konferenssijulkaisuussa

    Tutkimusalat

    • ALD
    • cryoresistor
    • passivation
    • stability

    Siteeraa tätä