Annealing Behaviour of Deuterium in Silicon Doped Carbon Films

Jari Likonen, E. Vainonen-Ahlgren, Tommy Ahlgren, S. Lehto, T. Sajavaara, Walter Rydman, J. Keinonen, Jukka Katainen, C.H. Wu

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut445-450
JulkaisuContributions to Plasma Physics
Vuosikerta42
Numero2-4
TilaJulkaistu - 2002
OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

Tutkimusalat

  • DLC, Silicon, Carbon, Film

Siteeraa tätä