Annealing Behaviour of Deuterium in Silicon Doped Carbon Films

Jari Likonen; E. Vainonen-Ahlgren; Tommy Ahlgren; S. Lehto; T. Sajavaara; Walter Rydman; J. Keinonen; Jukka Katainen; C.H. Wu

Annealing Behaviour of Deuterium in Silicon Doped Carbon Films

Jari Likonen, E. Vainonen-Ahlgren, Tommy Ahlgren, S. Lehto, T. Sajavaara, Walter Rydman, J. Keinonen, Jukka Katainen, C.H. Wu

Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu

Alkuperäiskieli	Englanti
Sivut	445-450
Julkaisu	Contributions to Plasma Physics
Vuosikerta	42
Numero	2-4
Tila	Julkaistu - 2002
OKM-julkaisutyyppi	A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Tutkimusalat

DLC, Silicon, Carbon, Film

Siteeraa tätä

@article{02fe31ca41224d5a9beec6ab22a840af,

title = "Annealing Behaviour of Deuterium in Silicon Doped Carbon Films",

keywords = "DLC, Silicon, Carbon, Film, DLC, Silicon, Carbon, Film, DLC, Silicon, Carbon, Film",

author = "Jari Likonen and E. Vainonen-Ahlgren and Tommy Ahlgren and S. Lehto and T. Sajavaara and Walter Rydman and J. Keinonen and Jukka Katainen and C.H. Wu",

year = "2002",

language = "English",

volume = "42",

pages = "445--450",

journal = "Contributions to Plasma Physics",

issn = "1521-3986",

publisher = "Wiley-VCH Verlag",

number = "2-4",

}

TY - JOUR

T1 - Annealing Behaviour of Deuterium in Silicon Doped Carbon Films

AU - Likonen, Jari

AU - Vainonen-Ahlgren, E.

AU - Ahlgren, Tommy

AU - Lehto, S.

AU - Sajavaara, T.

AU - Rydman, Walter

AU - Keinonen, J.

AU - Katainen, Jukka

AU - Wu, C.H.

PY - 2002

Y1 - 2002

KW - DLC, Silicon, Carbon, Film

M3 - Article

SN - 1521-3986

VL - 42

SP - 445

EP - 450

JO - Contributions to Plasma Physics

JF - Contributions to Plasma Physics

IS - 2-4

ER -