Anisotropic wet chemical etching of crystalline silicon: atomistic Monte-Carlo simulations and experiments

Miguel A. Gosalvez, Risto Nieminen, P. Kilpinen, Eero Haimi, Veikko K. Lindroos

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut7-26
JulkaisuApplied Surface Science
Vuosikerta178
Numero1-4
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - heinäk. 2001
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Tutkimusalat

  • anisotropic wet chemical etching
  • cellular automaton
  • convex corner
  • KOH
  • mask
  • Monte-Carlo simulations
  • morphology
  • roughness
  • silicon
  • surface structure
  • topography

Siteeraa tätä