Amorphous Oxide Formation on NbAl(3) and TiAl due to Ion Implantion of (18)O

R.J.Jr. Hanrahan, E.D. Verink, E.O. Ristolainen, S.P. Withow

    Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussaConference contributionScientificvertaisarvioitu

    AlkuperäiskieliEnglanti
    OtsikkoMRS Fall Meeting, 29-31 Dec., 1993
    TilaJulkaistu - 1993
    OKM-julkaisutyyppiA4 Artikkeli konferenssijulkaisuussa

    Tutkimusalat

    • amorphous oxid, ion implantion, NbAl and TiAl alloys, SIMS

    Siteeraa tätä