Aluminum oxide mask fabrication by focused ion beam implantation combined with wet etching

Zhengjun Liu, Kari Iltanen, Nikolai Chekurov, Kestutis Grigoras, Ilkka Tittonen

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

7 Sitaatiot (Scopus)
AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut175304
JulkaisuNanotechnology
Vuosikerta24
Numero17
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 2013
OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

Laitteet

OtaNano

Anna Rissanen (Manager)

Aalto-yliopisto

Laitteistot/tilat: Facility

  • Siteeraa tätä