Aluminum oxide from trimethylaluminum and water by atomic layer deposition: The temperature dependence of residual stress, elastic modulus, hardness and adhesion

Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

Tutkijat

Organisaatiot

  • VTT Technical Research Centre of Finland
  • Fraunhofer Institute for Material and Beam Technology
  • University of Jyväskylä

Yksityiskohdat

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut124-135
Sivumäärä12
JulkaisuThin Solid Films
Vuosikerta552
TilaJulkaistu - 3 helmikuuta 2014
OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

    Tutkimusalat

  • adhesion, aluminum oxide, atomic layer deposition, elastic modulus, hardness, residual stress

ID: 806478