Aluminum oxide from trimethylaluminum and water by atomic layer deposition: The temperature dependence of residual stress, elastic modulus, hardness and adhesion

Oili M. E. Ylivaara; Xuwen Liu; L. Kilpi; Jussi Lyytinen; D. Schneider; Mikko Laitinen; J. Julin; S. Ali; S. Sintonen; Maria Berdova; Eero Haimi; Timo Sajavaara; H. Ronkainen; H. Lipsanen; Jari Koskinen; Simo-Pekka Hannula; R.L. Puurunen

doi:10.1016/j.tsf.2013.11.112

Aluminum oxide from trimethylaluminum and water by atomic layer deposition: The temperature dependence of residual stress, elastic modulus, hardness and adhesion

Oili M. E. Ylivaara, Xuwen Liu, L. Kilpi, Jussi Lyytinen, D. Schneider, Mikko Laitinen, J. Julin, S. Ali, S. Sintonen, Maria Berdova, Eero Haimi, Timo Sajavaara, H. Ronkainen, H. Lipsanen, Jari Koskinen, Simo-Pekka Hannula, R.L. Puurunen

Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu

158 Sitaatiot (Scopus)

Alkuperäiskieli	Englanti
Sivut	124-135
Sivumäärä	12
Julkaisu	Thin Solid Films
Vuosikerta	552
DOI - pysyväislinkit	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2013.11.112
Tila	Julkaistu - 3 helmik. 2014
OKM-julkaisutyyppi	A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Tutkimusalat

adhesion
aluminum oxide
atomic layer deposition
elastic modulus
hardness
residual stress

Pääsy asiakirjaan

10.1016/j.tsf.2013.11.112

OtaNano
Rissanen, A. (Manager)
Aalto-yliopisto
Laitteistot/tilat: Facility
OtaNano Nanofab
Repo, P. (Manager) & Rissanen, A. (Other)
OtaNano
Laitteistot/tilat: Facility
Raaka-aineiden tutkimusinfrastruktuuri
Karppinen, M. (Manager)
Kemian tekniikan korkeakoulu
Laitteistot/tilat: Facility

Siteeraa tätä

Ylivaara, O. M. E., Liu, X., Kilpi, L., Lyytinen, J., Schneider, D., Laitinen, M., Julin, J., Ali, S., Sintonen, S., Berdova, M., Haimi, E., Sajavaara, T., Ronkainen, H., Lipsanen, H., Koskinen, J., Hannula, S.-P., & Puurunen, R. L. (2014). Aluminum oxide from trimethylaluminum and water by atomic layer deposition: The temperature dependence of residual stress, elastic modulus, hardness and adhesion. Thin Solid Films, 552, 124-135. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2013.11.112

@article{3c7bed532b2640b4a93de59360c41f6d,

title = "Aluminum oxide from trimethylaluminum and water by atomic layer deposition: The temperature dependence of residual stress, elastic modulus, hardness and adhesion",

keywords = "adhesion, aluminum oxide, atomic layer deposition, elastic modulus, hardness, residual stress, adhesion, aluminum oxide, atomic layer deposition, elastic modulus, hardness, residual stress, adhesion, aluminum oxide, atomic layer deposition, elastic modulus, hardness, residual stress",

author = "Ylivaara, {Oili M. E.} and Xuwen Liu and L. Kilpi and Jussi Lyytinen and D. Schneider and Mikko Laitinen and J. Julin and S. Ali and S. Sintonen and Maria Berdova and Eero Haimi and Timo Sajavaara and H. Ronkainen and H. Lipsanen and Jari Koskinen and Simo-Pekka Hannula and R.L. Puurunen",

year = "2014",

month = feb,

day = "3",

doi = "10.1016/j.tsf.2013.11.112",

language = "English",

volume = "552",

pages = "124--135",

journal = "Thin Solid Films",

issn = "0040-6090",

publisher = "Elsevier",

}

Ylivaara, OME, Liu, X, Kilpi, L, Lyytinen, J, Schneider, D, Laitinen, M, Julin, J, Ali, S, Sintonen, S, Berdova, M, Haimi, E, Sajavaara, T, Ronkainen, H, Lipsanen, H , Koskinen, J , Hannula, S-P & Puurunen, RL 2014, 'Aluminum oxide from trimethylaluminum and water by atomic layer deposition: The temperature dependence of residual stress, elastic modulus, hardness and adhesion', Thin Solid Films, Vuosikerta 552, Sivut 124-135. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2013.11.112

TY - JOUR

T1 - Aluminum oxide from trimethylaluminum and water by atomic layer deposition: The temperature dependence of residual stress, elastic modulus, hardness and adhesion

AU - Ylivaara, Oili M. E.

AU - Liu, Xuwen

AU - Kilpi, L.

AU - Lyytinen, Jussi

AU - Schneider, D.

AU - Laitinen, Mikko

AU - Julin, J.

AU - Ali, S.

AU - Sintonen, S.

AU - Berdova, Maria

AU - Haimi, Eero

AU - Sajavaara, Timo

AU - Ronkainen, H.

AU - Lipsanen, H.

AU - Koskinen, Jari

AU - Hannula, Simo-Pekka

AU - Puurunen, R.L.

PY - 2014/2/3

Y1 - 2014/2/3

KW - adhesion

KW - aluminum oxide

KW - atomic layer deposition

KW - elastic modulus

KW - hardness

KW - residual stress

KW - adhesion

KW - aluminum oxide

KW - atomic layer deposition

KW - elastic modulus

KW - hardness

KW - residual stress

KW - adhesion

KW - aluminum oxide

KW - atomic layer deposition

KW - elastic modulus

KW - hardness

KW - residual stress

U2 - 10.1016/j.tsf.2013.11.112

DO - 10.1016/j.tsf.2013.11.112

M3 - Article

SN - 0040-6090

VL - 552

SP - 124

EP - 135

JO - Thin Solid Films

JF - Thin Solid Films

ER -

Aluminum oxide from trimethylaluminum and water by atomic layer deposition: The temperature dependence of residual stress, elastic modulus, hardness and adhesion

Tutkimusalat

Pääsy asiakirjaan

Laitteet

OtaNano

OtaNano Nanofab

Raaka-aineiden tutkimusinfrastruktuuri

Siteeraa tätä