AlN metal-semiconductor field-effect transistors using Si-ion implantation

Hironori Okumura, Sami Suihkonen, Jori Lemettinen, Akira Uedono, Yuhao Zhang, Daniel Piedra, Tomás Palacios

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

46 Sitaatiot (Scopus)
346 Lataukset (Pure)

Hakutulokset