Al2O3 Thin Films Prepared by a Combined Thermal-Plasma Atomic Layer Deposition Process at Low Temperature for Encapsulation Applications

Zhen Zhu, Saoussen Merdes, Oili M. E. Ylivaara, Kenichiro Mizohata, Mikko J. Heikkila, Hele Savin

Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu

5 Sitaatiot (Scopus)

Hakutulokset