Adsorption of metal impurities on H-terminated Si surfaces and their influence on the wet chemical etching of Si

Teemu Hynninen, Adam S. Foster, Miguel A. Gosálvez, Kazuo Sato, Risto M. Nieminen

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

10 Sitaatiot (Scopus)
AlkuperäiskieliEnglanti
Artikkeli485005
Sivumäärä9
JulkaisuJournal of physics: Condensed matter
Vuosikerta20
Numero48
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 2008
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Tutkimusalat

  • adsorption
  • clusters
  • etching
  • metal impurities
  • surface morphology

Siteeraa tätä