Siirry päänavigointiin Siirry hakuun Siirry pääsisältöön

A simple model for quantifying the degree of layer-by-layer growth in low energy ion deposition of thin films

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

6 Sitaatiot (Scopus)
AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut55-60
JulkaisuNuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms
Vuosikerta264
Numero1
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 2007
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Tutkimusalat

  • layer-by-layer growth
  • low energy ion deposition
  • modelling

Siteeraa tätä