Siirry päänavigointiin Siirry hakuun Siirry pääsisältöön

A Pyrazolate-Based Metalorganic Tantalum Precursor Exhibiting High Thermal Stability and its Use in the Atomic Layer Deposition of Ta2O5

  • Charles H. Winter
  • , Charles L. Dezelah IV
  • , Monika Wiedmann
  • , Kenichiro Mizohata
  • , Ronald J. Baird
  • , Lauri Niinistö

    Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussaConference article in proceedingsScientificvertaisarvioitu

    AlkuperäiskieliEnglanti
    OtsikkoALD 2007, 7th International Conference on Atomic Layer Deposition, Kona Kai Resort, San Diego, California 24-27 June 2007
    TilaJulkaistu - 2007
    OKM-julkaisutyyppiA4 Artikkeli konferenssijulkaisussa

    Siteeraa tätä