A Pyrazolate-Based Metalorganic Tantalum Precursor Exhibiting High Thermal Stability and its Use in the Atomic Layer Deposition of Ta2O5

Charles H. Winter, Charles L. Dezelah IV, Monika Wiedmann, Kenichiro Mizohata, Ronald J. Baird, Lauri Niinistö

    Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussaConference contributionScientificvertaisarvioitu

    AlkuperäiskieliEnglanti
    OtsikkoALD 2007, 7th International Conference on Atomic Layer Deposition, Kona Kai Resort, San Diego, California 24-27 June 2007
    TilaJulkaistu - 2007
    OKM-julkaisutyyppiA4 Artikkeli konferenssijulkaisuussa

    Siteeraa tätä