A physics-based model of gate-tunable metal-graphene contact resistance benchmarked against experimental data

Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

Tutkijat

  • Ferney A. Chaves
  • David Jimenez
  • Abhay A. Sagade
  • Won Kim
  • Juha Riikonen
  • Harri Lipsanen

  • Daniel Neumaier

Organisaatiot

  • Autonomous University of Barcelona
  • AMO GmbH

Yksityiskohdat

AlkuperäiskieliEnglanti
Artikkeli025006
Sivut1-8
Sivumäärä8
Julkaisu2 D Materials
Vuosikerta2
Numero2
TilaJulkaistu - 2015
OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

ID: 1995651