A low valent metalorganic precursor for the growth of tungsten nitride thin films by atomic layer deposition

Charles L. Dezelah, Oussama M. El-Kadri, Kaupo Kukli, Kai Arstila, Ronald J. Baird, Jun Lu, Lauri Niinistö, Charles H. Winter

    Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

    24 Sitaatiot (Scopus)
    AlkuperäiskieliEnglanti
    Sivut1109-1116
    JulkaisuJournal of Materials Chemistry
    Vuosikerta17
    Numero11
    TilaJulkaistu - 2007
    OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

    Siteeraa tätä