A low valent metalorganic precursor for the growth of tungsten nitride thin films by atomic layer deposition

Charles L. Dezelah; Oussama M. El-Kadri; Kaupo Kukli; Kai Arstila; Ronald J. Baird; Jun Lu; Lauri Niinistö; Charles H. Winter

A low valent metalorganic precursor for the growth of tungsten nitride thin films by atomic layer deposition

Charles L. Dezelah, Oussama M. El-Kadri, Kaupo Kukli, Kai Arstila, Ronald J. Baird, Jun Lu, Lauri Niinistö, Charles H. Winter

Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu

27 Sitaatiot (Scopus)

Alkuperäiskieli	Englanti
Sivut	1109-1116
Julkaisu	Journal of Materials Chemistry
Vuosikerta	17
Numero	11
Tila	Julkaistu - 2007
OKM-julkaisutyyppi	A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Siteeraa tätä

@article{c508572ab0c74647bee7fb6631baec40,

title = "A low valent metalorganic precursor for the growth of tungsten nitride thin films by atomic layer deposition",

author = "Dezelah, {Charles L.} and El-Kadri, {Oussama M.} and Kaupo Kukli and Kai Arstila and Baird, {Ronald J.} and Jun Lu and Lauri Niinist{\"o} and Winter, {Charles H.}",

year = "2007",

language = "English",

volume = "17",

pages = "1109--1116",

journal = "Journal of Materials Chemistry",

issn = "0959-9428",

publisher = "Royal Society of Chemistry",

number = "11",

}

TY - JOUR

T1 - A low valent metalorganic precursor for the growth of tungsten nitride thin films by atomic layer deposition

AU - Dezelah, Charles L.

AU - El-Kadri, Oussama M.

AU - Kukli, Kaupo

AU - Arstila, Kai

AU - Baird, Ronald J.

AU - Lu, Jun

AU - Niinistö, Lauri

AU - Winter, Charles H.

PY - 2007

Y1 - 2007

M3 - Article

SN - 0959-9428

VL - 17

SP - 1109

EP - 1116

JO - Journal of Materials Chemistry

JF - Journal of Materials Chemistry

IS - 11

ER -