A comparative study on lanthanide oxide thin films grown by atomic layer deposition

Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

Tutkijat

  • Jani Päiväsaari
  • Matti Putkonen
  • Lauri Niinistö

Organisaatiot

Yksityiskohdat

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut275-281
JulkaisuThin Solid Films
Vuosikerta472
Numero1-2
TilaJulkaistu - 2005
OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

    Tutkimusalat

  • ALD, atomic layer deposition, electrical measurements, electrical properties, lanthanides, oxides

ID: 2377319