A comparative study on lanthanide oxide thin films grown by atomic layer deposition

Jani Päiväsaari, Matti Putkonen, Lauri Niinistö

    Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

    134 Sitaatiot (Scopus)
    AlkuperäiskieliEnglanti
    Sivut275-281
    JulkaisuThin Solid Films
    Vuosikerta472
    Numero1-2
    TilaJulkaistu - 2005
    OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

    Tutkimusalat

    • ALD
    • atomic layer deposition
    • electrical measurements
    • electrical properties
    • lanthanides
    • oxides

    Siteeraa tätä

    Päiväsaari, J., Putkonen, M., & Niinistö, L. (2005). A comparative study on lanthanide oxide thin films grown by atomic layer deposition. Thin Solid Films, 472(1-2), 275-281.