Reaktiivinen virtaus huokoisessa materiaalissa: mallitus ja kokeet atomikerroskasvatuksessa

Projektin yksityiskohdat

Tiivistelmä

Atomikerroskasvatus (ALD) on globaalin nanoteknologiaan liittyvän innovaatioekosysteemin keskiössä. ALDI-konsortiossa tutkitaan reaktiivista kaasunsiirtoa huokoisten materiaalien pinnoituksessa ALD:lla hyödyntäen laskennallista virtausdynamiikkaa (CFD) eri detaljitasoilla ja virtausalueilla (kontinuumi, siirtymäalue, molekyylivirtaus). ALD:n konformalisuuden kehittyminen kuvataan nanotason neliskulmaisissa raoissa sekä huokoisten partikkeleiden kiintopedeissä. Työssä mitataan samanaikaisesti kokeellisesti ALD-prosessien kyllästysprofiileja, joiden perusteella päätellään ALD:ssa käytettävien reaktioiden pintakemian kinetiikka. ALDIssa yhdistetään monitieteisesti virtausfysiikkaa ja kemiallista reaktiotekniikkaa, tavoitteena tuottaa perustavanlaatuista numeerista tietoa prosessien kinetiikasta. ALDI tulee vaikuttamaan siihen, miten ALD-prosessien konformaalisuutta arvioidaan ja mitataan tulevaisuudessa. Uusia avoimia mallitus- ja simulointityökaluja ja dataa luodaan ja julkaistaan.
LyhytotsikkoALDI
TilaKäynnissä
Todellinen alku/loppupvm01/09/202031/08/2024