Tutkimustuotoksia vuodessa
Tutkimustuotoksia vuodessa
Projektin yksityiskohdat
Tiivistelmä
Atomikerroskasvatus (ALD) on globaalin nanoteknologiaan liittyvän innovaatioekosysteemin keskiössä. ALDI-konsortiossa tutkitaan reaktiivista kaasunsiirtoa huokoisten materiaalien pinnoituksessa ALD:lla hyödyntäen laskennallista virtausdynamiikkaa (CFD) eri detaljitasoilla ja virtausalueilla (kontinuumi, siirtymäalue, molekyylivirtaus). ALD:n konformalisuuden kehittyminen kuvataan nanotason neliskulmaisissa raoissa sekä huokoisten partikkeleiden kiintopedeissä. Työssä mitataan samanaikaisesti kokeellisesti ALD-prosessien kyllästysprofiileja, joiden perusteella päätellään ALD:ssa käytettävien reaktioiden pintakemian kinetiikka. ALDIssa yhdistetään monitieteisesti virtausfysiikkaa ja kemiallista reaktiotekniikkaa, tavoitteena tuottaa perustavanlaatuista numeerista tietoa prosessien kinetiikasta. ALDI tulee vaikuttamaan siihen, miten ALD-prosessien konformaalisuutta arvioidaan ja mitataan tulevaisuudessa. Uusia avoimia mallitus- ja simulointityökaluja ja dataa luodaan ja julkaistaan.
| Lyhytotsikko | ALDI |
|---|---|
| Akronyymi | ALDI |
| Tila | Käynnissä |
| Todellinen alku/loppupvm | 01/09/2020 → 31/08/2024 |
Yhteistyöpartnerit
- Aalto-yliopisto (johto)
- Suomen Akatemia (Projektin osapuoli)
YK:n kestävän kehityksen tavoitteet
Vuonna 2015 YK:n jäsenvaltiot sopivat 17 maailmanlaajuisesta kestävän kehityksen tavoitteesta (Sustainable Development Goal, SDG) poistamaan köyhyyden, suojelemaan planeettaa ja takaamaan vaurauden kaikille. Tämä projekti edistää seuraavia kestävän kehityksen tavoitteita:
Sormenjälki
Tutustu tutkimuksen aiheisiin, joita tämä projekti koskee. Nämä merkinnät luodaan taustalla olevien stipendien/apurahojen perusteella. Yhdessä ne muodostavat ainutlaatuisen sormenjäljen.
-
Computational fluid dynamics study of the atomic layer deposition process around cylindrical and planar configurations
Ersavas Isitman, G., Izbassarov, D., Puurunen, R. L. & Vuorinen, V., 5 elok. 2023, julkaisussa: Chemical Engineering Science. 277, 118862.Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu
Open access -
Effect of atomic layer deposited zinc promoter on the activity of copper-on-zirconia catalysts in the hydrogenation of carbon dioxide to methanol
Arandia, A., Yim, J., Warraich, H., Leppäkangas, E., Bes, R., Lempelto, A., Gell, L., Jiang, H., Meinander, K., Viinikainen, T., Huotari, S., Honkala, K. & Puurunen, R. L., helmik. 2023, julkaisussa: Applied Catalysis B: Environmental. 321, 122046.Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu
Open accessTiedosto8 Sitaatiot (Scopus)53 Lataukset (Pure) -
Conformality of atomic layer deposition in microchannels: impact of process parameters on the simulated thickness profile
Yim, J., Verkama, E., Velasco, J. A., Arts, K. & Puurunen, R. L., 11 maalisk. 2022, julkaisussa: Physical Chemistry Chemical Physics. 24, 15, s. 8645-8660 16 SivumääräTutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu
Open accessTiedosto7 Sitaatiot (Scopus)47 Lataukset (Pure)
Tietoaineistot
-
ALD Al2O3 thickness profile in microscopic rectangular channel, TMA-water 300 degC 500 cycles, PillarHall(TM) LHAR3-1b, V0001
Ylivaara, O. (Creator), Puurunen, R. (Creator) & Marles, J. (Creator), Zenodo, 31 toukok. 2021
DOI - pysyväislinkki: 10.5281/zenodo.3974438, https://zenodo.org/record/3974438
Tietoaineisto: Dataset