Reactive flow in porous media: modelling and experiments in atomic layer deposition context

Projektin yksityiskohdat

Tiivistelmä

Atomikerroskasvatus (ALD) on globaalin nanoteknologiaan liittyvän innovaatioekosysteemin keskiössä. ALDI-konsortiossa tutkitaan reaktiivista kaasunsiirtoa huokoisten materiaalien pinnoituksessa ALD:lla hyödyntäen laskennallista virtausdynamiikkaa (CFD) eri detaljitasoilla ja virtausalueilla (kontinuumi, siirtymäalue, molekyylivirtaus). ALD:n konformalisuuden kehittyminen kuvataan nanotason neliskulmaisissa raoissa sekä huokoisten partikkeleiden kiintopedeissä. Työssä mitataan samanaikaisesti kokeellisesti ALD-prosessien kyllästysprofiileja, joiden perusteella päätellään ALD:ssa käytettävien reaktioiden pintakemian kinetiikka. ALDIssa yhdistetään monitieteisesti virtausfysiikkaa ja kemiallista reaktiotekniikkaa, tavoitteena tuottaa perustavanlaatuista numeerista tietoa prosessien kinetiikasta. ALDI tulee vaikuttamaan siihen, miten ALD-prosessien konformaalisuutta arvioidaan ja mitataan tulevaisuudessa. Uusia avoimia mallitus- ja simulointityökaluja ja dataa luodaan ja julkaistaan.
AkronyymiALDI
TilaKäynnissä
Todellinen alku/loppupvm01/09/202031/08/2024

YK:n kestävän kehityksen tavoitteet

Vuonna 2015 YK:n jäsenvaltiot sopivat 17 maailmanlaajuisesta kestävän kehityksen tavoitteesta (Sustainable Development Goal, SDG) poistamaan köyhyyden, suojelemaan planeettaa ja takaamaan vaurauden kaikille. Tämä projekti edistää seuraavia kestävän kehityksen tavoitteita:

  • SDG 13 – Ilmastotoimet

Sormenjälki

Tutustu tutkimuksen aiheisiin, joita tämä projekti koskee. Nämä merkinnät luodaan taustalla olevien stipendien/apurahojen perusteella. Yhdessä ne muodostavat ainutlaatuisen sormenjäljen.