JVST A Best ALD Paper Award

Österlund, Elmeri (Recipient), Seppänen, Heli (Recipient), Bespalova, Kristina (Recipient), Miikkulainen, Ville (Recipient) & Paulasto-Kröckel, Mervi (Recipient)

Kemian ja materiaalitieteen laitos
Electronics Integration and Reliability
School of Electrical Engineering
Sähkötekniikan ja automaation laitos
Harri Lipsanen Group
Elektroniikan ja nanotekniikan laitos

Palkinto: Palkinto tai huomionosoitus tuotoksesta

Description

Award for paper "Atomic layer deposition of AlN using atomic layer annealing—Towards high-quality AlN on vertical sidewalls, by Elmeri Österlund, Heli Seppänen, Kristina Bespalova, Ville Miikkulainen and Mervi Paulasto-Kröckel, JVST A 39, 032403 (2021)"

Myöntöpäivä	28 kesäk. 2021
Tunnustuksen arvo	International
Myöntävät organisaatiot	American vacuum society

Myönnetty tapahtumassa

Tapahtuman otsikko	International Conference on Atomic Layer Deposition
Paikka	virtual in 2021 (because of Covid-19), Virtual, OnlineNäytä kartalla
Aikajakso	27 kesäk. 2021 → 30 kesäk. 2021

Sormenjälki

Asiakirjat ja linkit

https://ald2021.avs.org/awards/