Tutkimustuotoksia vuodessa
Tutkimustuotoksia vuodessa
Henkilökohtainen profiili
Koulutus / tieteellinen pätevyys
Elektroniikan ja sähkötekniikan koulutusohjelma, Mikro- ja nanotekniikka, Teknillinen korkeakoulu
Myöntöpäivä: 20 tammikuuta 2009
Sormenjälki
Sukella tutkimusaiheisiin, joissa Zhen Zhu on aktiivinen. Nämä aihemerkinnät ovat peräisin tämän henkilön teoksista. Yhdessä ne muodostavat ainutlaatuisen sormenjäljen.
- 6 Samanlaiset profiilit
Verkko
Viimeisin maatasolla toteutettu yhteistyö. Saat syvempiä lisätietoja pisteitä napsauttamalla.
Tutkimustuotos
-
Al2O3 Thin Films Prepared by a Combined Thermal-Plasma Atomic Layer Deposition Process at Low Temperature for Encapsulation Applications
Zhu, Z., Merdes, S., Ylivaara, O. M. E., Mizohata, K., Heikkila, M. J. & Savin, H., 1 huhtikuuta 2020, julkaisussa: PHYSICA STATUS SOLIDI A: APPLICATIONS AND MATERIALS SCIENCE. 217, 8, 5 Sivumäärä, 1900237.Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu
-
Low-Temperature Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of Silicon Dioxide and Aluminum Oxide
Zhu, Z., 2019, Aalto University. 100 SivumääräTutkimustuotos: Doctoral Thesis › Collection of Articles
-
Low-Temperature Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of SiO 2 Using Carbon Dioxide
Zhu, Z., Sippola, P., Ylivaara, O. M. E., Modanese, C., Di Sabatino, M., Mizohata, K., Merdes, S., Lipsanen, H. & Savin, H., 12 helmikuuta 2019, julkaisussa: Nanoscale Research Letters. 14, 8 Sivumäärä, 55.Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu
Open accessTiedosto -
Effective passivation of p+ and n+ emitters using SiO2/Al2O3/SiNx stacks: Surface passivation mechanisms and application to industrial p-PERT bifacial Si solar cells
Huang, H., Modanese, C., Sun, S., von Gastrow, G., Wang, J., Pasanen, T. P., Li, S., Wang, L., Bao, Y., Zhu, Z., Sneck, S. & Savin, H., 1 marraskuuta 2018, julkaisussa: Solar Energy Materials and Solar Cells. 186, s. 356-364 9 SivumääräTutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu
Open accessTiedosto -
Influence of plasma parameters on the properties of ultrathin Al2O3 films prepared by plasma enhanced atomic layer deposition below 100 °c for moisture barrier applications
Zhu, Z., Sippola, P., Lipsanen, H., Savin, H. & Merdes, S., 1 joulukuuta 2018, julkaisussa: Japanese Journal of Applied Physics. 57, 12, 125502.Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu
Open accessTiedosto
Aktiviteetit
- 1 Konferenssiesitelmä
-
Investigation of PEALD SiO2 thin films by rf-GDOES
Zhen Zhu (Kontribuuttori), Chiara Modanese (Puhuja), Perttu Sippola (Kontribuuttori), Marisa Di Sabatino (Kontribuuttori) & Hele Savin (Kontribuuttori)
25 toukokuuta 2017Aktiviteetti: Konferenssiesitelmä