Zhen Zhu

Henkilökohtainen profiili

Koulutus / tieteellinen pätevyys

Dipl.ins., sähkötekniikka

Myöntöpäivä: 20 tammikuuta 2009

Sormenjälki Sukella tutkimusaiheisiin, joissa Zhen Zhu on aktiivinen. Nämä aihemerkinnät ovat peräisin tämän henkilön teoksista. Yhdessä ne muodostavat ainutlaatuisen sormenjäljen.

4 Samanlaiset profiilit

Verkko Viimeisin maatasolla toteutettu yhteistyö. Saat syvempiä lisätietoja pisteitä napsauttamalla.

Tutkimustuotos

25 Article
2 Conference contribution
1 Doctoral Thesis
1 Working paper

Al2O3 Thin Films Prepared by a Combined Thermal-Plasma Atomic Layer Deposition Process at Low Temperature for Encapsulation Applications

Zhu, Z., Merdes, S., Ylivaara, O. M. E., Mizohata, K., Heikkila, M. J. & Savin, H., 30 syyskuuta 2019, julkaisussa : PHYSICA STATUS SOLIDI A: APPLICATIONS AND MATERIALS SCIENCE. 5 Sivumäärä, 1900237.

Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu

Low-Temperature Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of Silicon Dioxide and Aluminum Oxide

Zhu, Z., 2019, Aalto University. 100 Sivumäärä

Tutkimustuotos: Doctoral Thesis › Collection of Articles

Low-Temperature Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of SiO ₂ Using Carbon Dioxide

Zhu, Z., Sippola, P., Ylivaara, O. M. E., Modanese, C., Di Sabatino, M., Mizohata, K., Merdes, S., Lipsanen, H. & Savin, H., 12 helmikuuta 2019, julkaisussa : Nanoscale Research Letters. 14, 8 Sivumäärä, 55.

Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu

Open access

Tiedosto

1 Sitaatiot (Scopus)

144 Lataukset (Pure)

Effective passivation of p⁺ and n⁺ emitters using SiO₂/Al₂O₃/SiN_x stacks: Surface passivation mechanisms and application to industrial p-PERT bifacial Si solar cells

Huang, H., Modanese, C., Sun, S., von Gastrow, G., Wang, J., Pasanen, T. P., Li, S., Wang, L., Bao, Y., Zhu, Z., Sneck, S. & Savin, H., 1 marraskuuta 2018, julkaisussa : Solar Energy Materials and Solar Cells. 186, s. 356-364 9 Sivumäärä

Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu

Open access

Tiedosto

11 Sitaatiot (Scopus)

7 Lataukset (Pure)

Influence of plasma parameters on the properties of ultrathin Al₂O₃ films prepared by plasma enhanced atomic layer deposition below 100 °c for moisture barrier applications

Zhu, Z., Sippola, P., Lipsanen, H., Savin, H. & Merdes, S., 1 joulukuuta 2018, julkaisussa : Japanese Journal of Applied Physics. 57, 12, 125502.

Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu

Open access

Tiedosto

5 Sitaatiot (Scopus)

113 Lataukset (Pure)

Aktiviteetit

1 Konferenssiesitelmä

Investigation of PEALD SiO₂ thin films by rf-GDOES

Zhen Zhu (Kontribuuttori), , Chiara Modanese (Puhuja), , Perttu Sippola (Kontribuuttori), , Marisa Di Sabatino (Kontribuuttori), & Hele Savin (Kontribuuttori)

25 toukokuuta 2017

Aktiviteetti: Konferenssiesitelmä