Valokuva Riikka Puurunen

Näytä Scopus-profiili

Riikka Puurunen

 https://orcid.org/0000-0001-8722-4864
    1999 …2025

    Tutkimustuotoksia vuodessa

    Suodatin
    Conference article in proceedings

    Hakutulokset

    • 2022

      Optical metrology of 3D thin film conformality by LHAR chip assisted method

      Utriainen, M., Saastamoinen, K., Rekola, H., Ylivaara, O. M. E., Puurunen, R. L. & Hyttinen, P., 5 maalisk. 2022, Photonic Instrumentation Engineering IX. Busse, L. E., Soskind, Y. & Mock, P. C. (toim.). SPIE, 120080D. (Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering; Vuosikerta 12008).

      Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Conference article in proceedings › Scientific › vertaisarvioitu

      Open access
      Tiedosto
      5 Sitaatiot (Scopus)
      128 Lataukset (Pure)
    • 2021

      Product design of powder for 3D printing

      Van Ommen, J. R., Zhang, F., Goulas, A., Padding, J. T., Puurunen, R. L. & Meesters, G. M. H., 2021, CFB 2021 - Proceedings of the 13th International Conference on Fluidized Bed Technology. Bi, X., Briens, C., Ellis, N. & Wormsbecker, M. (toim.). GLAB Reactor and Fluidization Technologies, s. 386-390 5 Sivumäärä

      Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Conference article in proceedings › Scientific › vertaisarvioitu

    • 2018

      Learnings from an open science effort: Virtual project on the history of ALD

      Puurunen, R. L., 1 tammik. 2018, ATOMIC LAYER DEPOSITION APPLICATIONS. De Gendt, S., Elam, J. W., Dendooven, J., Van Der Straten, O., Roozeboom, F., Liu, C. & Illiberi, A. (toim.). Electrochemical Society, Vuosikerta 14. s. 3-17 15 Sivumäärä (ECS Transactions; Vuosikerta 86, nro 6).

      Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Conference article in proceedings › Scientific › vertaisarvioitu

      2 Sitaatiot (Scopus)
    • 2017

      Influence of ALD temperature on thin film conformality: Investigation with microscopic lateral high-aspect-ratio structures

      Puurunen, R. L. & Gao, F., 24 maalisk. 2017, 2016 14th International Baltic Conference on Atomic Layer Deposition, BALD 2016 - Proceedings. IEEE, s. 20-24 5 Sivumäärä 7886526

      Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Conference article in proceedings › Scientific › vertaisarvioitu

      15 Sitaatiot (Scopus)
    • 2014

      On the Early History of ALD: Molecular Layering

      Aarik, J., Akbashev, A. R., Cameron, D., Elam, J., Elliott, S., Gottardi, G., Grigoras, K., Koshtyal, Y., Kääriäinen, M.-L., Kääriäinen, T., Malkov, A., Malygin, A., Molarius, J., Nikkola, J., Pedersen, H., Puurunen, R. L., Ras, R. H. A., Roozeboom, F., Savin, H. & Seidel, T. E. & 3 muuta, Sundqvist, J., van Ommen, J. R. & Ylivaara, O., 2014, 14th International Conference on Atomic Layer Deposition, Kyoto, Japan, June 15-18, 2014.

      Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Conference article in proceedings › Scientific › vertaisarvioitu

    • Overview of early publications on Atomic Layer Deposition

      Aarik, J., Akbashev, A. R., Cameron, D., Elam, J., Elliott, S., Gottardi, G., Grigoras, K., Koshtyal, Y., Kääriäinen, M.-L., Kääriäinen, T., Malkov, A., Malygin, A., Molarius, J., Nikkola, J., Pedersen, H., Puurunen, R. L., Ras, R. H. A., Roozeboom, F., Savin, H. & Seidel, T. E. & 3 muuta, Sundqvist, J., van Ommen, J. R. & Ylivaara, O. M. E., 2014, Technical Program & Abstracts. American Vacuum Society

      Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Conference article in proceedings › Scientific › vertaisarvioitu

    • Overview of early publications on Atomic Layer Deposition

      Aarik, J., Akbashev, A. R., Cameron, D., Elam, J., Elliott, S., Gottardi, G., Grigoras, K., Koshtyal, Y., Kääriäinen, M.-L., Kääriäinen, T., Malkov, A., Malygin, A., Molarius, J., Nikkola, J., Pedersen, H., Puurunen, R. L., Ras, R. H. A., Roozeboom, F., Savin, H. & Seidel, T. E. & 3 muuta, Sundqvist, J., van Ommen, J. R. & Ylivaara, O. M. E., 2014, 14th International Conference on Atomic Layer Deposition, Kyoto, Japan, June 15-18, 2014.

      Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Conference article in proceedings › Scientific › vertaisarvioitu

    • 2012

      Use of ALD thin film bragg mirror stacks in tuneable visible light mems fabry-perot interferometers

      Rissanen, A. & Puurunen, R. L., 2012, Advanced Fabrication Technologies for Micro/Nano Optics and Photonics V. Vuosikerta 8249. 82491A

      Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Conference article in proceedings › Scientific › vertaisarvioitu

      13 Sitaatiot (Scopus)
    • 2011

      Direct wafer bonding of atomic layer deposited TiO2 and Al 2O3 thin films

      Puurunen, R. L., Suni, T., Ylivaara, O., Kondo, H., Ammar, M., Ishida, T., Fujita, H., Bosseboeuf, A., Zaima, S. & Kattelus, H., 2011, 2011 16th International Solid-State Sensors, Actuators and Microsystems Conference, TRANSDUCERS'11. s. 978-981 4 Sivumäärä 5969474

      Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Conference article in proceedings › Scientific › vertaisarvioitu

      6 Sitaatiot (Scopus)
    • 2010

      Bonding of ALD alumina for advanced SOI substrates

      Suni, T., Puurunen, R. L., Ylivaara, O., Kattelus, H., Henttinen, K., Ishida, T. & Fujita, H., 2010, Semiconductor Wafer Bonding 11: Science, Technology, and Applications - In Honor of Ulrich Gosele. 4 toim. Vuosikerta 33. s. 137-144 8 Sivumäärä

      Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Conference article in proceedings › Scientific › vertaisarvioitu

      8 Sitaatiot (Scopus)

    • Vapor-phase self-assembled monolayers for improved MEMS reliability

      Rissanen, A., Tappura, K., Laamanen, M., Puurunen, R., Färm, E., Ritala, M. & Leskelä, M., 2010, IEEE Sensors 2010 Conference, SENSORS 2010. s. 767-770 4 Sivumäärä 5690769

      Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Conference article in proceedings › Scientific › vertaisarvioitu

      7 Sitaatiot (Scopus)
    • 2007

      Implementing ALD layers in MEMS processing

      Puurunen, R. L., Saarilahti, J. & Kattelus, H., 2007, ECS Transactions - 3rd Symposium on Atomic Layer Deposition Applications. 7 toim. Vuosikerta 11. s. 3-14 12 Sivumäärä

      Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Conference article in proceedings › Scientific › vertaisarvioitu

      79 Sitaatiot (Scopus)
    • 2005

      Surface preparation techniques for high-k deposition on Ge substrates

      Van Elshocht, S., Delabie, A., Brijs, B., Caymax, M., Conard, T., Onsia, B., Puurunen, R., Richard, O., Van Steenbergen, J., Zhao, C., Meuris, M. & Heyns, M. M., 2005, Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces VII, UCPSS 2004 - Proceedings of the 7th International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (UCPSS). Trans Tech Publications, Vuosikerta 103-104. s. 31-34 4 Sivumäärä (Solid State Phenomena; Vuosikerta 103-104).

      Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Conference article in proceedings › Scientific › vertaisarvioitu

      4 Sitaatiot (Scopus)
    • 2003

      Implementation of high-k gate dielectrics - A status update

      De Gendt, S., Chen, J., Carter, R., Cartier, E., Caymax, M., Claes, M., Conard, T., Delabie, A., Deweerd, W., Kaushik, V., Kerber, A., Kubicek, S., Maes, J. W., Niwa, M., Pantisano, L., Puurunen, R., Ragnarsson, L., Schram, T., Shimamoto, Y. & Tsai, W. & 6 muuta, Rohr, E., Van Elshocht, S., Witters, T., Young, E., Zhao, C. & Heyns, M., 2003, Extended Abstracts of International Workshop on Gate Insulator, IWGI 2003. IEEE, s. 10-14 5 Sivumäärä 1252497

      Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Conference article in proceedings › Scientific › vertaisarvioitu

      1 Sitaatiot (Scopus)

    • Scaling of Hf-based gate dielectrics - Integration with polysilicon gates

      De Gendt, S., Caymax, M., Chen, J., Claes, M., Conard, T., Delabie, A., Deweerd, W., Kaushik, V., Kerber, A., Kubicek, S., Niwa, M., Pantisano, L., Puurunen, R., Ragnarsson, L., Schram, T., Shimamoto, Y., Tsai, W., Rohr, E., Van Elshocht, S. & Vandervorst, W. & 4 muuta, Witters, T., Young, E., Zhao, C. & Heyns, M., 2003, Physics and Technology of High-k Gate Dielectrics II : proceedings of the Second International Symposium on High Dielectric Constant Materials: Materials Science, Processing, Reliability, and Manufacturing Issues : held in Orlando, Florida, October 12-16, 2003 . Kar, S., Misra, D., Houssa, M., Landheer, D. & et al, A. (toim.). Electrochemical Society, s. 267-275 9 Sivumäärä

      Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Conference article in proceedings › Scientific › vertaisarvioitu

    • 2002

      Effect of the size and reactivity of the metal reactant (MLn) on ALD growth

      Puurunen, R., 2002, AVS Topical Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2002), Seoul, Korea, August 19-21, 2002. s. 31

      Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Conference article in proceedings › Scientific › vertaisarvioitu

    • 2001

      In situ time-resolved spectroscopy of a heterogeneous catalyst with a fibre optic UV-vis spectrometer: a new method for probing catalyst events

      Puurunen, R. L. & Weckhuysen, B. M., 2001, EUROPACAT V, Limerick, Irlanti, 2.-7.9.2001. s. 6-

      Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Conference article in proceedings › Scientific › vertaisarvioitu

    • 1999

      Growth of aluminium nitride on porous silica from trimethylaluminium and ammonia precursors by the ALCVD technique

      Puurunen, R. L., Haukka, S., Iiskola, E. I. & Krause, A. O. I., 1999, ALE/ALENET WORKSHOP on synthesis and analysis of atomic and molecular surface structures, Helsinki, 20.-22.6.1999. European Science Foundation (ESF), s. 1

      Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Conference article in proceedings › Scientific › vertaisarvioitu

    Viestisi lähetys onnistui.
    Viestiäsi ei lähetetty, koska tapahtui virhe.