Tutkimustuotoksia vuodessa
Tutkimustuotoksia vuodessa
Henkilökohtainen profiili
Koulutus / tieteellinen pätevyys
Master's degree, Engineering and Technology, Aalto University
Myöntöpäivä: 31 jouluk. 2020
Sormenjälki
Sukella tutkimusaiheisiin, joissa Olli Setälä on aktiivinen. Nämä aihemerkinnät ovat peräisin tämän henkilön teoksista. Yhdessä ne muodostavat ainutlaatuisen sormenjäljen.
- 1 Samanlaiset profiilit
Yhteistyöt ja huippututkimusalueet viimeisiltä viideltä vuodelta
Viimeisin maa-/aluetasolla toteutettu yhteistyö. Saat tarkempia lisätietoja pisteitä napauttamalla, tai
-
Charged thin film enables dopant free ohmic metal–semiconductor contact formation
Lahtiluoma, L., Setälä, O., Vähänissi, V. & Savin, H., 30 elok. 2025, julkaisussa: Applied Surface Science. 701, 15 Sivumäärä, 163260.Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu
Open accessTiedosto1 Lataukset (Pure) -
Elimination of dead layer in silicon particle detectors via induced electric field based charge collection
Setälä, O. E., Pasanen, T. P., Ott, J., Krainukovs, I., Heinonen, J., Vähänissi, V. & Savin, H., tammik. 2025, julkaisussa: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section A: Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment. 1070, 170064.Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu
Open accessTiedosto2 Sitaatiot (Scopus)47 Lataukset (Pure) -
(oral talk) Dead-Layer-Free Semiconductor Detectors via Highly Charged Dielectrics
Setälä, O., Pasanen, T., Ott, J., Vähänissi, V., Savin, H. & Heinonen, J., 30 lokak. 2024. 1 Sivumäärä.Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Abstract › Scientific › vertaisarvioitu
-
(poster) New Method for Ohmic Metal to Si Contact Formation Utilizing Highly Charged ALD Dielectric.
Lahtiluoma, L., Setälä, O., Vähänissi, V. & Savin, H., 6 heinäk. 2024. 1 Sivumäärä.Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Abstract › Scientific › vertaisarvioitu
Open accessTiedosto30 Lataukset (Pure) -
(invited talk) Excellent Responsivity and Low Dark Current Obtained with Black Si Photodiode
Savin, H., Chen, K., Setälä, O., Liu, X., Radfar, B. & Vähänissi, V., 31 lokak. 2023.Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Abstract › Scientific › vertaisarvioitu
Tietoaineistot
-
Elimination of dead layer in silicon particle detectors via induced electric field based charge collection
Setälä, O. (Creator), Pasanen, T. (Creator), Ott, J. (Creator), Krainukovs, I. (Creator), Heinonen, J. (Creator), Vähänissi, V. (Creator) & Savin, H. (Creator), Zenodo, 4 syysk. 2024
DOI - pysyväislinkki: 10.5281/zenodo.13683409, https://zenodo.org/records/13683410
Tietoaineisto: Dataset
-
Data for article "Charged thin film enables dopant free ohmic metal-semiconductor contact formation"
Lahtiluoma, L. (Creator), Setälä, O. (Creator), Vähänissi, V. (Creator) & Savin, H. (Creator), Zenodo, 14 huhtik. 2025
DOI - pysyväislinkki: 10.5281/zenodo.15211252
Tietoaineisto: Dataset
-
Dead-Layer-Free Semiconductor Detectors via Highly Charged Dielectrics
Setälä, O. (Puhuja), Pasanen, T. (Kontribuuttori), Ott, J. (Kontribuuttori), Heinonen, J. (Kontribuuttori), Vähänissi, V. (Kontribuuttori) & Savin, H. (Kontribuuttori)
30 lokak. 2024Aktiviteetti: Konferenssiesitelmä
-
Excellent Responsivity and Low Dark Current Obtained with Metal-Assisted Chemical Etched Si Photodiode
Savin, H. (Kutsuttu puhuja), Chen, K. (Kontribuuttori), Setälä, O. (Kontribuuttori), Liu, X. (Kontribuuttori), Radfar, B. (Kontribuuttori) & Vähänissi, V. (Kontribuuttori)
31 lokak. 2023Aktiviteetti: Konferenssiesitelmä
-
Improved QE in CMOS image sensors with nano-black antireflection layer
Prest, M. J. (Puhuja), Setälä, O. (Kontribuuttori), Stefanov, K. D. (Kontribuuttori), Vähänissi, V. (Kontribuuttori), Savin, H. (Kontribuuttori) & Jordan, D. (Kontribuuttori)
21 toukok. 2023 → 25 toukok. 2023Aktiviteetti: Konferenssiesitelmä
-
Record-high UV response in implanted junctions through passivation of surface defects and minimisation of boron implantation damage
Chen, K. (Puhuja), Setälä, O. (Kontribuuttori), Radfar, B. (Kontribuuttori), Kroth, U. (Kontribuuttori), Vähänissi, V. (Kontribuuttori) & Savin, H. (Kontribuuttori)
14 syysk. 2022Aktiviteetti: Konferenssiesitelmä
-
Compatibility of Al-neal in processing of Si devices with Al2O3 layer
Setälä, O. (Puhuja), Pasanen, T. (Kontribuuttori), Ott, J. (Kontribuuttori), Vähänissi, V. (Kontribuuttori) & Savin, H. (Kontribuuttori)
11 syysk. 2022 → 16 syysk. 2022Aktiviteetti: Konferenssiesitelmä