Tutkimustuotoksia vuodessa
Tutkimustuotoksia vuodessa
Henkilökohtainen profiili
Asiantuntemus YK:n kestävän kehityksen tavoitteista
Vuonna 2015 YK:n jäsenvaltiot sopivat 17 maailmanlaajuisesta kestävän kehityksen tavoitteesta köyhyyden poistamiseksi, planeetan suojelemiseksi ja vaurauden takaamiseksi kaikille. Tämän henkilön työ edistää seuraavia kestävän kehityksen tavoitteita:
Koulutus / tieteellinen pätevyys
Dipl.ins., materiaalitekniikka, kalliotekniikka
Myöntöpäivä: 29 maalisk. 2005
Sormenjälki
Sukella tutkimusaiheisiin, joissa Oili Ylivaara on aktiivinen. Nämä aihemerkinnät ovat peräisin tämän henkilön teoksista. Yhdessä ne muodostavat ainutlaatuisen sormenjäljen.
- 1 Samanlaiset profiilit
Yhteistyöt ja huippututkimusalueet viimeisiltä viideltä vuodelta
Viimeisin maa-/aluetasolla toteutettu yhteistyö. Saat tarkempia lisätietoja pisteitä napauttamalla, tai
-
Optical metrology of 3D thin film conformality by LHAR chip assisted method
Utriainen, M., Saastamoinen, K., Rekola, H., Ylivaara, O. M. E., Puurunen, R. L. & Hyttinen, P., 5 maalisk. 2022, Photonic Instrumentation Engineering IX. Busse, L. E., Soskind, Y. & Mock, P. C. (toim.). SPIE, 120080D. (Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering; Vuosikerta 12008).Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Conference article in proceedings › Scientific › vertaisarvioitu
Open accessTiedosto7 Sitaatiot (Scopus)101 Lataukset (Pure) -
Thermomechanical properties of aluminum oxide thin films made by atomic layer deposition
Ylivaara, O. M. E., Langner, A., Ek, S., Malm, J., Julin, J., Laitinen, M., Ali, S., Sintonen, S., Lipsanen, H., Sajavaara, T. & Puurunen, R. L., 1 jouluk. 2022, julkaisussa: Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films. 40, 6, 10 Sivumäärä, 062414.Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu
Open accessTiedosto4 Sitaatiot (Scopus)91 Lataukset (Pure) -
Mechanical and optical properties of as-grown and thermally annealed titanium dioxide from titanium tetrachloride and water by atomic layer deposition
Ylivaara, O. M. E., Langner, A., Liu, X., Schneider, D., Julin, J., Arstila, K., Sintonen, S., Ali, S., Lipsanen, H., Sajavaara, T., Hannula, S.-P. & Puurunen, R. L., 31 elok. 2021, julkaisussa: Thin Solid Films. 732, 11 Sivumäärä, 138758.Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu
Open accessTiedosto22 Sitaatiot (Scopus)227 Lataukset (Pure) -
Saturation profile measurement of atomic layer deposited film by X-ray microanalysis on lateral high-aspect-ratio structure
Haimi, E., Ylivaara, O., Yim, J. & Puurunen, R., 1 syysk. 2021, julkaisussa: Applied Surface Science Advances. 5, 5 Sivumäärä, 100102.Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu
Open accessTiedosto105 Lataukset (Pure) -
Al2O3 Thin Films Prepared by a Combined Thermal-Plasma Atomic Layer Deposition Process at Low Temperature for Encapsulation Applications
Zhu, Z., Merdes, S., Ylivaara, O. M. E., Mizohata, K., Heikkila, M. J. & Savin, H., 1 huhtik. 2020, julkaisussa: Physica Status Solidi (A) Applications and Materials Science. 217, 8, 5 Sivumäärä, 1900237.Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu
6 Sitaatiot (Scopus)
Tietoaineistot
-
ALD Al2O3 thickness profile in microscopic rectangular channel, TMA-water 300 degC 500 cycles, PillarHall(TM) LHAR3-1b, V0001
Ylivaara, O. (Creator), Puurunen, R. (Creator) & Marles, J. (Creator), Zenodo, 31 toukok. 2021
DOI - pysyväislinkki: 10.5281/zenodo.3974438, https://zenodo.org/record/3974438
Tietoaineisto: Dataset