Microelectronic Engineering

Tutkimustuotokset

  1. 2016
  2. Julkaistu

    IR-sintering efficiency on inkjet-printed conductive structures on paper substrates

    Henriques Gaspar, C., Passoja, S., Olkkonen, J. & Smolander, M., 5 tammikuuta 2016, julkaisussa : Microelectronic Engineering. 149, s. 135-140 6 Sivumäärä

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  3. 2014
  4. Julkaistu

    Degradation and stability of nanostructured energy devices

    Lund, P., Hashmi, S., Ma, Y., Patakangas, J. & Jing, Y., 25 elokuuta 2014, julkaisussa : Microelectronic Engineering. 126, s. 49-53 5 Sivumäärä

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  5. 2013
  6. Julkaistu

    Nanostructured materials for energy applications

    Lund, P., elokuuta 2013, julkaisussa : Microelectronic Engineering. 108, s. 84-85 2 Sivumäärä

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  7. 2011
  8. Julkaistu

    R2R gravure and inkjet printed RF resonant tag

    Allen, M., Lee, C., Ahn, B., Kololuoma, T., Shin, K. & Ko, S., marraskuuta 2011, julkaisussa : Microelectronic Engineering. 88, 11, s. 3293-3299 7 Sivumäärä

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  9. Julkaistu

    Contactless read-out of printed memory

    Allen, M., Aronniemi, M., Mattila, T., Helistö, P., Sipola, H., Rautiainen, A., Leppäniemi, J., Alastalo, A., Korhonen, R. & Seppä, H., syyskuuta 2011, julkaisussa : Microelectronic Engineering. 88, 9, s. 2941-2945 5 Sivumäärä

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  10. 2010
  11. Julkaistu

    Automated optical method for ultrasonic bond pull force estimation

    Seppänen, H., Schäfer, R., Kassamakov, I., Hauptmann, P. & Hæggström, E., marraskuuta 2010, julkaisussa : Microelectronic Engineering. 87, 9, s. 1796-1804 9 Sivumäärä

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  12. 2007
  13. Julkaistu

    Atomic layer deposition of ZrO2 and HfO2 on deep trenched and planar silicon

    Kukli, K., Niinistö, J., Tamm, A., Lu, J., Ritala, M., Leskelä, M., Putkonen, M., Niinistö, L., Song, F., Williams, P. & 1 muuta, Heys, P. N., 2007, julkaisussa : Microelectronic Engineering. 84, 9-10, s. 2010-2013

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  14. 2004
  15. Julkaistu

    Interfacial reactions in the Si/TaC/Cu system

    Laurila, T., Molarius, J. & Kivilahti, J. K., toukokuuta 2004, julkaisussa : Microelectronic Engineering. 71, 3-4, s. 301-309 9 Sivumäärä

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  16. 2003
  17. Julkaistu

    Evaluation of mechanical stresses in silicon substrates due to lead-tin solder bumps via synchrotron X-ray topography and finite element modeling

    Kanatharana, J., Pérez-Camacho, J. J., Buckley, T., McNally, P. J., Tuomi, T., Danilewsky, A. N., "O'Hare", M., Lowney, D., Chen, W., Rantamäki, R. & 2 muuta, Knuuttila, L. & Riikonen, J., 2003, julkaisussa : Microelectronic Engineering. 65, s. 209-221

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  18. Julkaistu

    Potential of amorphous Mo Si N films for nanoelectronic applications

    Ylönen, M., Kattelus, H., Savin, A., Kivinen, P., Haatainen, T. & Ahopelto, J., 2003, julkaisussa : Microelectronic Engineering. 70, s. 337-340

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  19. 2002
  20. Julkaistu

    Effect of oxygen on the reactions in Si/Ta/Cu and Si/TaC/Cu systems

    Laurila, T., Zeng, K., Molarius, J., Riekkinen, T., Suni, I. & Kivilahti, J. K., lokakuuta 2002, julkaisussa : Microelectronic Engineering. 64, 1-4, s. 279-287 9 Sivumäärä

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  21. Julkaistu

    Reactive sputter deposition and properties of TaxN thin films

    Riekkinen, T., Molarius, J., Laurila, T., Nurmela, A., Suni, I. & Kivilahti, J. K., lokakuuta 2002, julkaisussa : Microelectronic Engineering. 64, 1-4, s. 289-297 9 Sivumäärä

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  22. Julkaistu

    Tantalum carbide and nitride diffusion barriers for Cu metallisation

    Laurila, T., Zeng, K., Kivilahti, J. K., Molarius, J., Riekkinen, T. & Suni, I., tammikuuta 2002, julkaisussa : Microelectronic Engineering. 60, 1-2, s. 71-80 10 Sivumäärä

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  23. Julkaistu

    Manufacture of single electron transistors using AFM manipulation on multiwalled carbon nanotubes

    Roschier, L., Tarkiainen, R., Ahlskog, M., Paalanen, M. & Hakonen, P., 2002, julkaisussa : Microelectronic Engineering. 61-62, s. 687-691 5 Sivumäärä

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  24. 2001
  25. Julkaistu

    Submicron image reversal by liquid phase deposition of oxide

    Niskanen, A. & Franssila, S., 2001, julkaisussa : Microelectronic Engineering. 57-58, s. 629-632

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  26. 2000
  27. Julkaistu

    On light-emitting mechanism in Si/SiO_(2) superlattices grown by molecular beam deposition

    Novikov, S., Kilpelä, O., Sinkkonen, J. & Khriachtehev, L., 2000, julkaisussa : Microelectronic Engineering. 51-52, s. 505-511

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  28. 1999
  29. Julkaistu

    Computer controlled patterning system for scanning probe microscopes

    Lindell, A., Davidsson, P. & Pekola, J., elokuuta 1999, julkaisussa : Microelectronic Engineering. 45, 4, s. 363-368 6 Sivumäärä

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  30. Julkaistu

    Nano-lithography by electron exposure using an Atomic Force Microscope

    Davidsson, P., Lindell, A., Mäkelä, T., Paalanen, M. & Pekola, J., 1 helmikuuta 1999, julkaisussa : Microelectronic Engineering. 45, 1, s. 1-8 8 Sivumäärä

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  31. Julkaistu

    The quality of 200 mm diameter epitaxial Si wafers for advanced CMOS technology monitored using synchrotron X-ray topography

    McNally, P. J., Danilewsky, A. N., Curley, J. W., Reader, A., Rantamäki, R., Tuomi, T., Bolt, M. & Taskinen, M., 1999, julkaisussa : Microelectronic Engineering. 45, s. 47-56

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  32. 1998
  33. Julkaistu

    Coulomb blockade nanothermometer

    Kauppinen, J. P. & Pekola, J. P., maaliskuuta 1998, julkaisussa : Microelectronic Engineering. 41-42, s. 503-506 4 Sivumäärä

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  34. Julkaistu

    Anisotropic Si Reactive Ion Etching in Fluorinated Plasma

    Malinin, A., Majamaa, T. & Hovinen, A., 1998, julkaisussa : Microelectronic Engineering. 43-44, s. 641-645

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  35. 1997
  36. Julkaistu

    Reduction of molybdenum resistivity by a seed layer of Ti-W

    Franssila, S., Kattelus, H. & Nykänen, E., 1997, julkaisussa : Microelectronic Engineering. 37/38, s. 373-380

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

ID: 339451