JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A

Tutkimustuotokset

  1. 2019
  2. Julkaistu

    Sticking probabilities of H 2 O and Al(CH 3 ) 3 during atomic layer deposition of Al 2 O 3 extracted from their impact on film conformality

    Arts, K., Vandalon, V., Puurunen, R. L., Utriainen, M., Gao, F., Erwin Kessels, W. M. M. & Knoops, H. C. M., 24 huhtikuuta 2019, julkaisussa : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films. 37, 3, 5 Sivumäärä, 030908.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

  3. Julkaistu

    Flexible thermoelectric modules based on ALD-grown ZnO on different substrates

    Marin, G., Tynell, T. & Karppinen, M., 1 maaliskuuta 2019, julkaisussa : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films. 37, 2, 020906.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

  4. Julkaistu

    Studies on solid state reactions of atomic layer deposited thin films of lithium carbonate with hafnia and zirconia

    Mäntymäki, M., Atosuo, E., Heikkilä, M., Vehkamäki, M., Mattinen, M., Mizohata, K., Räisänen, J., Ritala, M. & Leskelä, M., 1 maaliskuuta 2019, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 37, 2, s. 020929 8 Sivumäärä, 020929.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

  5. 2018
  6. Julkaistu
  7. Julkaistu
  8. Julkaistu

    Tribological properties of thin films made by atomic layer deposition sliding against silicon

    Kilpi, L., Ylivaara, O. M. E., Vaajoki, A., Liu, X., Rontu, V., Sintonen, S., Haimi, E., Malm, J., Bosund, M., Tuominen, M. & 5 muutaSajavaara, T., Lipsanen, H., Hannula, S. P., Puurunen, R. L. & Ronkainen, H., 1 tammikuuta 2018, julkaisussa : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films. 36, 1, 13 Sivumäärä, 01A122.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

  9. Julkaistu

    Atomic layer deposition of AlN from AlCl3 using NH3 and Ar/NH3 plasma

    Rontu, V., Sippola, P., Broas, M., Ross, G., Lipsanen, H., Paulasto-Kröckel, M. & Franssila, S., tammikuuta 2018, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 36, 2, 021508.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

  10. 2017
  11. Julkaistu

    Atomic layer etching of gallium nitride (0001)

    Kauppinen, C., Khan, S. A., Sundqvist, J., Suyatin, D. B., Suihkonen, S., Kauppinen, E. I. & Sopanen, M., 1 marraskuuta 2017, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 35, 6, s. 1-5 5 Sivumäärä, 060603.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

  12. Julkaistu

    Aluminum oxide/titanium dioxide nanolaminates grown by atomic layer deposition: Growth and mechanical properties

    Ylivaara, O. M. E., Kilpi, L., Liu, X., Sintonen, S., Ali, S., Laitinen, M., Julin, J., Haimi, E., Sajavaara, T., Lipsanen, H. & 3 muutaHannula, S. P., Ronkainen, H. & Puurunen, R., 1 tammikuuta 2017, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 35, 1, s. 1-13 13 Sivumäärä, 01B105.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

  13. Julkaistu

    Review Article : Recommended reading list of early publications on atomic layer deposition - Outcome of the "Virtual Project on the History of ALD: Recommended reading list of early publications on atomic layer deposition - Outcome of the "Virtual Project on the History of ALD"

    Ahvenniemi, E., Akbashev, A. R., Ali, S., Bechelany, M., Berdova, M., Boyadjiev, S., Cameron, D. C., Chen, R., Chubarov, M., Cremers, V. & 52 muutaDevi, A., Drozd, V., Elnikova, L., Gottardi, G., Grigoras, K., Hausmann, D. M., Hwang, C. S., Jen, S. H., Kallio, T., Kanervo, J., Khmelnitskiy, I., Kim, D. H., Klibanov, L., Koshtyal, Y., Krause, A. O. I., Kuhs, J., Kärkkänen, I., Kääriäinen, M. L., Kääriäinen, T., Lamagna, L., Łapicki, A. A., Leskelä, M., Lipsanen, H., Lyytinen, J., Malkov, A., Malygin, A., Mennad, A., Militzer, C., Molarius, J., Norek, M., Özgit-Akgün, Ç., Panov, M., Pedersen, H., Piallat, F., Popov, G., Puurunen, R. L., Rampelberg, G., Ras, R. H. A., Rauwel, E., Roozeboom, F., Sajavaara, T., Salami, H., Savin, H., Schneider, N., Seidel, T. E., Sundqvist, J., Suyatin, D. B., Törndahl, T., Van Ommen, J. R., Wiemer, C., Ylivaara, O. M. E. & Yurkevich, O., 1 tammikuuta 2017, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 35, 1, s. 1-13 13 Sivumäärä, 010801.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

  14. 2016
  15. Julkaistu

    Hardness, elastic modulus, and wear resistance of hafnium oxide-based films grown by atomic layer deposition

    Berdova, M., Liu, X., Wiemer, C., Lamperti, A., Tallarida, G., Cianci, E., Fanciulli, M. & Franssila, S., 1 syyskuuta 2016, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 34, 5, 051510.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

  16. Julkaistu

    Structural and chemical analysis of annealed plasma-enhanced atomic layer deposition aluminum nitride films

    Broas, M., Sippola, P., Sajavaara, T., Vuorinen, V., Pyymaki Perros, A., Lipsanen, H. & Paulasto-Kröckel, M., 1 heinäkuuta 2016, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 34, 4, s. 1-10 10 Sivumäärä, 041506.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

  17. Julkaistu

    Microscratch testing method for systematic evaluation of the adhesion of atomic layer deposited thin films on silicon

    Kilpi, L., Ylivaara, O. M. E., Vaajoki, A., Malm, J., Sintonen, S., Tuominen, M., Puurunen, R. L. & Ronkainen, H., 1 tammikuuta 2016, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 34, 1, s. 1-11 11 Sivumäärä, 01A124.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

  18. 2015
  19. Julkaistu

    Microscopic silicon-based lateral high-aspect-ratio structures for thin film conformality analysis

    Gao, F., Arpiainen, S. & Puurunen, R. L., 1 tammikuuta 2015, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 33, 1, 010601.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

  20. Julkaistu

    Effect of substrate pretreatments on the atomic layer deposited Al2O3 passivation quality

    Bao, Y., Li, S., von Gastrow, G., Repo, P., Putkonen, M. & Savin, H., 2015, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 33, 1, 4 Sivumäärä, 01A123.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

  21. Julkaistu

    Fracture properties of atomic layer deposited aluminum oxide free-standing membranes

    Berdova, M., Ylivaara, O. M. E., Rontu, V., Törmä, P. T., Puurunen, R. & Franssila, S., 2015, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 33, 1, 5 Sivumäärä

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

  22. Julkaistu

    Infrared and thermoelectric power generation in thin atomic layer deposited Nb-doped TiO2 films

    Mann, H. S., Lang, B. N., Schwab, Y., Niemelä, J-P., Karppinen, M. & Scarel, G., 2015, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 33, 1, s. 1-7 01A124.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

  23. 2014
  24. Julkaistu

    Adhesion Testing of Atomic Layer Deposited TiO2 on Glass Substrate by the Use of Embedded SiO2 Microspheres

    Lyytinen, J., Berdova, M., Franssila, S. & Koskinen, J., 2014, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 32, 1, s. 1-5 5 Sivumäärä, 01A102.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

  25. Julkaistu

    Hybrid inorganic–organic superlattice structures with atomic layer deposition/molecular layer deposition

    Tynell, T., Yamauchi, H. & Karppinen, M., 2014, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 32, 1, s. 1-5 01A105.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

  26. Julkaistu

    On the reliability of nanoindentation hardness of Al2O3 films grown on Si-wafer by atomic layer deposition

    Liu, X., Haimi, E., Hannula, S-P., Ylivaara, O. M. E. & Puurunen, R. L., 2014, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 32, 1, s. 1-6 6 Sivumäärä, 01A116.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

  27. Julkaistu

    X-ray reflectivity characterization of atomic layer deposition Al2O3/TiO2 nanolaminates with ultrathin bilayers

    Sintonen, S., Ali, S., Ylivaara, O. M. E., Puurunen, R. L. & Lipsanen, H., 2014, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 32, 1, s. 1-4 4 Sivumäärä, 01A111.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

  28. 2013
  29. Julkaistu

    Characterization of thin film adhesion by MEMS shaft-loading blister testing

    Berdova, M., Lyytinen, J., Grigoras, K., Baby, A., Kilpi, L., Ronkainen, H., Franssila, S. & Koskinen, J., 2013, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 31, 3, s. 1-5 5 Sivumäärä, 031102.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

  30. 2012
  31. Julkaistu

    Conformality of remote plasma-enhanced atomic layer deposition processes: An experimental study

    Kariniemi, M., Niinistö, J., Vehkamäki, M., Kemell, M., Ritala, M., Leskelä, M. & Putkonen, M., 2012, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 30, 00, s. 01

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

  32. Julkaistu

    Plasma etch characteristics of aluminum nitride mask layers grown by low-temperature plasma enhanced atomic layer deposition in SF(6) based plasmas

    Perros, A., Bosund, M., Sajavaara, T., Laitinen, M., Sainiemi, L., Huhtio, T. & Lipsanen, H., 2012, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 30, 1, s. 1-5 5 Sivumäärä, 011504.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

  33. 1999
  34. Julkaistu

    Pattern shape effects and artefacts in deep silicon etching

    Kiihamäki, J. & Franssila, S., 1999, julkaisussa : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films. A17, 4, s. 2280-2285

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

  35. 1990
  36. Julkaistu

    Small-scale high-strength silicon carbide fibers fabricated from thin films produced by plasma enhanced chemical vapor deposition

    Koskinen, J., Soave, R. J. & Johnson, H. H., 1990, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 8, 3, s. 1422-1426 5 Sivumäärä

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

ID: 322190