JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A

Tutkimustuotokset

  1. 2019
  2. Julkaistu

    Photoassisted atomic layer deposition of oxides employing alkoxides as single-source precursors

    Miikkulainen, V., Väyrynen, K., Mizohata, K., Räisänen, J., Vehkamäki, M. & Ritala, M., 1 marraskuuta 2019, julkaisussa : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films. 37, 6, 060911.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  3. Julkaistu

    Sticking probabilities of H 2 O and Al(CH 3 ) 3 during atomic layer deposition of Al 2 O 3 extracted from their impact on film conformality

    Arts, K., Vandalon, V., Puurunen, R. L., Utriainen, M., Gao, F., Erwin Kessels, W. M. M. & Knoops, H. C. M., 24 huhtikuuta 2019, julkaisussa : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films. 37, 3, 5 Sivumäärä, 030908.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  4. Julkaistu
  5. Julkaistu

    Studies on solid state reactions of atomic layer deposited thin films of lithium carbonate with hafnia and zirconia

    Mäntymäki, M., Atosuo, E., Heikkilä, M., Vehkamäki, M., Mattinen, M., Mizohata, K., Räisänen, J., Ritala, M. & Leskelä, M., 1 maaliskuuta 2019, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 37, 2, s. 020929 8 Sivumäärä, 020929.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  6. 2018
  7. Julkaistu
  8. Julkaistu
  9. Julkaistu

    Tribological properties of thin films made by atomic layer deposition sliding against silicon

    Kilpi, L., Ylivaara, O. M. E., Vaajoki, A., Liu, X., Rontu, V., Sintonen, S., Haimi, E., Malm, J., Bosund, M., Tuominen, M. & 5 muuta, Sajavaara, T., Lipsanen, H., Hannula, S. P., Puurunen, R. L. & Ronkainen, H., 1 tammikuuta 2018, julkaisussa : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films. 36, 1, 13 Sivumäärä, 01A122.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  10. Julkaistu
  11. 2017
  12. Julkaistu

    Atomic layer etching of gallium nitride (0001)

    Kauppinen, C., Khan, S. A., Sundqvist, J., Suyatin, D. B., Suihkonen, S., Kauppinen, E. I. & Sopanen, M., 1 marraskuuta 2017, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 35, 6, s. 1-5 5 Sivumäärä, 060603.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  13. Julkaistu

    Aluminum oxide/titanium dioxide nanolaminates grown by atomic layer deposition: Growth and mechanical properties

    Ylivaara, O. M. E., Kilpi, L., Liu, X., Sintonen, S., Ali, S., Laitinen, M., Julin, J., Haimi, E., Sajavaara, T., Lipsanen, H. & 3 muuta, Hannula, S. P., Ronkainen, H. & Puurunen, R., 1 tammikuuta 2017, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 35, 1, s. 1-13 13 Sivumäärä, 01B105.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  14. Julkaistu

    Review Article : Recommended reading list of early publications on atomic layer deposition - Outcome of the "Virtual Project on the History of ALD: Recommended reading list of early publications on atomic layer deposition - Outcome of the "Virtual Project on the History of ALD"

    Ahvenniemi, E., Akbashev, A. R., Ali, S., Bechelany, M., Berdova, M., Boyadjiev, S., Cameron, D. C., Chen, R., Chubarov, M., Cremers, V. & 52 muuta, Devi, A., Drozd, V., Elnikova, L., Gottardi, G., Grigoras, K., Hausmann, D. M., Hwang, C. S., Jen, S. H., Kallio, T., Kanervo, J., Khmelnitskiy, I., Kim, D. H., Klibanov, L., Koshtyal, Y., Krause, A. O. I., Kuhs, J., Kärkkänen, I., Kääriäinen, M. L., Kääriäinen, T., Lamagna, L., Łapicki, A. A., Leskelä, M., Lipsanen, H., Lyytinen, J., Malkov, A., Malygin, A., Mennad, A., Militzer, C., Molarius, J., Norek, M., Özgit-Akgün, Ç., Panov, M., Pedersen, H., Piallat, F., Popov, G., Puurunen, R. L., Rampelberg, G., Ras, R. H. A., Rauwel, E., Roozeboom, F., Sajavaara, T., Salami, H., Savin, H., Schneider, N., Seidel, T. E., Sundqvist, J., Suyatin, D. B., Törndahl, T., Van Ommen, J. R., Wiemer, C., Ylivaara, O. M. E. & Yurkevich, O., 1 tammikuuta 2017, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 35, 1, s. 1-13 13 Sivumäärä, 010801.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  15. 2016
  16. Julkaistu

    Hardness, elastic modulus, and wear resistance of hafnium oxide-based films grown by atomic layer deposition

    Berdova, M., Liu, X., Wiemer, C., Lamperti, A., Tallarida, G., Cianci, E., Fanciulli, M. & Franssila, S., 1 syyskuuta 2016, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 34, 5, 051510.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  17. Julkaistu

    Structural and chemical analysis of annealed plasma-enhanced atomic layer deposition aluminum nitride films

    Broas, M., Sippola, P., Sajavaara, T., Vuorinen, V., Pyymaki Perros, A., Lipsanen, H. & Paulasto-Kröckel, M., 1 heinäkuuta 2016, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 34, 4, s. 1-10 10 Sivumäärä, 041506.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  18. Julkaistu

    Microscratch testing method for systematic evaluation of the adhesion of atomic layer deposited thin films on silicon

    Kilpi, L., Ylivaara, O. M. E., Vaajoki, A., Malm, J., Sintonen, S., Tuominen, M., Puurunen, R. L. & Ronkainen, H., 1 tammikuuta 2016, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 34, 1, s. 1-11 11 Sivumäärä, 01A124.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  19. 2015
  20. Julkaistu

    Microscopic silicon-based lateral high-aspect-ratio structures for thin film conformality analysis

    Gao, F., Arpiainen, S. & Puurunen, R. L., 1 tammikuuta 2015, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 33, 1, 010601.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  21. Julkaistu

    Effect of substrate pretreatments on the atomic layer deposited Al2O3 passivation quality

    Bao, Y., Li, S., von Gastrow, G., Repo, P., Putkonen, M. & Savin, H., 2015, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 33, 1, 4 Sivumäärä, 01A123.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  22. Julkaistu
  23. Julkaistu

    Infrared and thermoelectric power generation in thin atomic layer deposited Nb-doped TiO2 films

    Mann, H. S., Lang, B. N., Schwab, Y., Niemelä, J-P., Karppinen, M. & Scarel, G., 2015, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 33, 1, s. 1-7 01A124.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  24. 2014
  25. Julkaistu

    Adhesion Testing of Atomic Layer Deposited TiO2 on Glass Substrate by the Use of Embedded SiO2 Microspheres

    Lyytinen, J., Berdova, M., Franssila, S. & Koskinen, J., 2014, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 32, 1, s. 1-5 5 Sivumäärä, 01A102.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  26. Julkaistu
  27. Julkaistu
  28. Julkaistu
  29. 2013
  30. Julkaistu

    Characterization of thin film adhesion by MEMS shaft-loading blister testing

    Berdova, M., Lyytinen, J., Grigoras, K., Baby, A., Kilpi, L., Ronkainen, H., Franssila, S. & Koskinen, J., 2013, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 31, 3, s. 1-5 5 Sivumäärä, 031102.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  31. 2012
  32. Julkaistu

    Conformality of remote plasma-enhanced atomic layer deposition processes: An experimental study

    Kariniemi, M., Niinistö, J., Vehkamäki, M., Kemell, M., Ritala, M., Leskelä, M. & Putkonen, M., 2012, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 30, 00, s. 01

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  33. Julkaistu

    Plasma etch characteristics of aluminum nitride mask layers grown by low-temperature plasma enhanced atomic layer deposition in SF(6) based plasmas

    Perros, A., Bosund, M., Sajavaara, T., Laitinen, M., Sainiemi, L., Huhtio, T. & Lipsanen, H., 2012, julkaisussa : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A. 30, 1, s. 1-5 5 Sivumäärä, 011504.

    Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

  34. 1999
  35. Julkaistu
  36. 1990
  37. Julkaistu

ID: 322190