Tutkimustuotoksia vuodessa
Tutkimustuotoksia vuodessa
Laitteiden yksityiskohdat
Description
OtaNano – NanoFab on Pohjois-Euroopan suurin mikro- ja nanovalmistukseen tarkoitettu puhdastila, kokonaispinta-alaltaan 2600 m2. Sen linjastot mahdollistavat mikro- ja nanonrakenteiden, kvanttilaitteiden, mikrosysteemien ja mikrofluidististen sirujen, mikro- ja nanosensorien sekä fotoniikan ja optoelektronisten laitteiden valmistuksen. Myös pienen mittakaavan massavalmistus sekä prototyyppien valmistus onnistuvat puhdastiloissa. Laitteet ovat käytettävissä joko itsenäisesti tai palveluna. Turvallisuus- ja peruskoulutukset ovat edellytys laitteiden käytölle. Kursseja järjestetään tarpeen mukaan.
NanoFabin puhdastila ja mittauslaboratoriot mahdollistavat useita eri valmistus- ja mittausprosesseja pääasiassa pii- tai kvartsikiekoille tai -siruille. Puhdastila on jaoteltu alueisiin, joiden puhdastilaluokitus vaihtelee litografia- ja CMOS-alueen ISO4:stä analyysilaboratorion ISO6-luokkaan. Suurin osa puhdastila-alueesta kuuluu luokkaan ISO5. Varsinaisen puhdastilan lisäksi tarjolla on myös erillisiä tiloja esim. mikro-pakkaukselle ja muille ”back-end” prosesseille sekä laboratoriot MOVPE, MBE ja muille ohutkalvoprosesseille.
NanoFabin puhdastila ja mittauslaboratoriot mahdollistavat useita eri valmistus- ja mittausprosesseja pääasiassa pii- tai kvartsikiekoille tai -siruille. Puhdastila on jaoteltu alueisiin, joiden puhdastilaluokitus vaihtelee litografia- ja CMOS-alueen ISO4:stä analyysilaboratorion ISO6-luokkaan. Suurin osa puhdastila-alueesta kuuluu luokkaan ISO5. Varsinaisen puhdastilan lisäksi tarjolla on myös erillisiä tiloja esim. mikro-pakkaukselle ja muille ”back-end” prosesseille sekä laboratoriot MOVPE, MBE ja muille ohutkalvoprosesseille.
×
![]()
Sormenjälki
Tutustu tutkimusalueisiin, joilla tätä laitetta on käytetty. Nämä merkinnät luodaan niihin liittyvien tuotosten perusteella. Yhdessä ne muodostavat ainutlaatuisen sormenjäljen.
Tutkimustuotos
-
AC-coupled n-in-p pixel detectors on MCz silicon with atomic layer deposition (ALD) grown thin film
Gädda, A., Ott, J., Bharthuar, S., Brücken, E., Kalliokoski, M., Karadzhinova-Ferrer, A., Bezak, M., Kirschenmann, S., Litichevsky, V., Golovleva, M., Martikainen, L., Winkler, A., Chmill, V., Tuovinen, E., Luukka, P. & Härkönen, J., 11 tammikuuta 2021, julkaisussa: NUCLEAR INSTRUMENTS AND METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION A: ACCELERATORS SPECTROMETERS DETECTORS AND ASSOCIATED EQUIPMENT. 986, 7 Sivumäärä, 164714.Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu
-
All-parylene flexible wafer-scale graphene thin film transistor
Kim, M., Mackenzie, D. M. A., Kim, W., Isakov, K. & Lipsanen, H., 15 kesäkuuta 2021, julkaisussa: Applied Surface Science. 551, 149410.Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu
Open accessTiedosto -
Application of atomic layer deposited thin films to silicon detectors
Ott, J., 2021, Aalto University. 179 SivumääräTutkimustuotos: Doctoral Thesis › Collection of Articles
Open access
Aktiviteetit
-
Proof of concept: ARC-free black interdigitated back contact module with wide acceptance angle
Pablo Ortega (Kontribuuttori), Toni Pasanen (Puhuja), Moises Garin (Kontribuuttori), Guillaume von Gastrow (Kontribuuttori), Tuukka Savisalo (Kontribuuttori), Antti Tolvanen (Kontribuuttori), Henri Vahlman (Kontribuuttori), Ville Vähänissi (Kontribuuttori), David Carrio (Kontribuuttori), Ramon Alcubilla (Kontribuuttori) & Hele Savin (Kontribuuttori)
6 helmikuuta 2020Aktiviteetti: Konferenssiesitelmä
-
Low Temperature Wafer-Level Cu-In-Sn Solid-Liquid Interdiffusion (SLID) Bonding
Glenn Ross (Kutsuttu puhuja), Vesa Vuorinen (Kontribuuttori) & Mervi Paulasto-Kröckel (Kontribuuttori)
4 lokakuuta 2020 → 9 lokakuuta 2020Aktiviteetti: Konferenssiesitelmä
-
Low Temperature Wafer-Level Cu-In-Sn Solid Liquid Interdiffusion Bonding For Low Stress Applications
Glenn Ross (Puhuja), Vesa Vuorinen (Kontribuuttori), Joseph Hotchkiss (Kontribuuttori), Jani Kaaos (Kontribuuttori) & Mervi Paulasto-Kröckel (Kontribuuttori)
3 joulukuuta 2019Aktiviteetti: Konferenssiesitelmä