ALD Al2O3 thickness profile in microscopic rectangular channel, TMA-water 300 degC 500 cycles, PillarHall(TM) LHAR3-1b, V0001

Oili Ylivaara (Creator)
Riikka Puurunen (Creator)
Jaana Marles (Creator)

Tietoaineisto

1 Article

1 tulosta

2020
Saturation profile based conformality analysis for atomic layer deposition: aluminum oxide in lateral high-aspect-ratio channels
Yim, J., Ylivaara, O. M. E., Ylilammi, M., Korpelainen, V., Haimi, E., Verkama, E., Utriainen, M. & Puurunen, R. L., 28 lokak. 2020, julkaisussa: Physical Chemistry Chemical Physics. 22, 40, s. 23107-23120 14 Sivumäärä
Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu

Open access
Tiedosto
39 Sitaatiot (Scopus)

182 Lataukset (Pure)