Effects of post oxidation of SiO2/Si interfaces in ultrahigh vacuum below 450 °C

Lehdistö/media: Esiintyminen mediassa

Aikajakso	1 heinäk. 2022

Käsittely mediassa

Nimi	Effects of post oxidation of SiO2/Si interfaces in ultrahigh vacuum below 450 °C
Medianimi / kanava	Aaltodoc
Maa/Alue	Suomi
Julkaisupäivämäärä	01/07/2022
URL-osoite	https://aaltodoc.aalto.fi/handle/123456789/115525
Henkilöt	Hele Savin

Julkaisut ja taiteelliset tuotokset
Effects of post oxidation of SiO2/Si interfaces in ultrahigh vacuum below 450 °C
Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu