Passivation of detector-grade Fz-Si with atomic layer deposited aluminium oxide

Pasanen, T. (Puhuja), Ott, J. (Kontribuuttori), Repo, P. (Kontribuuttori), Seppänen, H. (Kontribuuttori), Vähänissi, V. (Kontribuuttori), Savin, H. (Kontribuuttori)

Aktiviteetti: Konferenssiesitelmä

Aikajakso23 syyskuuta 2019
Tapahtuman otsikkoConference on Gettering and Defect Engineering in Semiconductor Technology
Tapahtuman tyyppiConference
Konferenssinumero18
SijaintiZeuthen, Saksa
Tunnustuksen arvoInternational