Influence of flow regime on the conformality of atomic layer deposition in lateral channels: simulations with a diffusion reaction model
- Velasco Calsina, J. (Puhuja)
- Jihong Yim (Kontribuuttori)
- Emma Verkama (Kontribuuttori)
- Puurunen, R. (Kontribuuttori)
Aktiviteetti: Konferenssiesitelmä