Efficient Surface Passivation of Black Silicon Using Spatial ALD

Aktiviteetti: Konferenssiesitelmä

Ismo T.S. Heikkinen - Kontribuuttori

Päivikki Repo - Kontribuuttori

Ville Vähänissi - Kontribuuttori

Toni Pasanen - Kontribuuttori

Ville Malinen - Kontribuuttori

Emma Salmi - Puhuja

Hele Savin - Kontribuuttori

17 heinäkuuta 2017

Tapahtuma (null)

Teoksen nimiInternational Conference on Atomic Layer Deposition
Lyhenne Teoksen nimiALD 2017
Ajanjakso15/07/201718/07/2017
KaupunkiDenver, Colorado
MaaYhdysvallat
Tunnustuksen arvo

Organisaatiot

ID: 14371082