Efficient Surface Passivation of Black Silicon Using Spatial ALD

Heikkinen, I. T. S. (Kontribuuttori), Repo, P. (Kontribuuttori), Vähänissi, V. (Kontribuuttori), Pasanen, T. (Kontribuuttori), Ville Malinen (Kontribuuttori), Emma Salmi (Puhuja), Savin, H. (Kontribuuttori)

Aktiviteetti: Konferenssiesitelmä

Aikajakso17 heinäkuuta 2017
Tapahtuman otsikkoInternational Conference on Atomic Layer Deposition
Tapahtuman tyyppiConference
Konferenssinumero17
SijaintiDenver, Colorado, Yhdysvallat
Tunnustuksen arvoInternational