Efficient Surface Passivation of Black Silicon Using Spatial ALD

  • Ismo T.S. Heikkinen (Kontribuuttori)
  • Repo, P. (Kontribuuttori)
  • Vähänissi, V. (Kontribuuttori)
  • Toni Pasanen (Kontribuuttori)
  • Ville Malinen (Kontribuuttori)
  • Emma Salmi (Puhuja)
  • Savin, H. (Kontribuuttori)

Aktiviteetti: Konferenssiesitelmä

Aikajakso17 heinäk. 2017
Tapahtuman otsikkoInternational Conference on Atomic Layer Deposition
Tapahtuman tyyppiConference
Konferenssinumero17
SijaintiDenver, Colorado, YhdysvallatNäytä kartalla
Tunnustuksen arvoInternational