Dissociation and formation kinetics of iron-boron pairs in silicon after phosphorus implantation gettering

  • Nabil Khelifati (Kontribuuttori)
  • Hannu Laine (Kontribuuttori)
  • Vähänissi, V. (Kontribuuttori)
  • Savin, H. (Kontribuuttori)
  • Fatima Zohra Bouamama (Kontribuuttori)
  • Djoudi Bouhafs (Kontribuuttori)

Aktiviteetti: Konferenssiesitelmä

Aikajakso22 syysk. 201927 syysk. 2019
Tapahtuman otsikkoConference on Gettering and Defect Engineering in Semiconductor Technology
Tapahtuman tyyppiConference
Konferenssinumero18
SijaintiZeuthen, SaksaNäytä kartalla
Tunnustuksen arvoInternational