Atomic layer deposition of AlN from AlCl3 using NH3 and Ar/NH3 plasma as co-reactant
- Ville Rontu (Puhuja)
- Perttu Sippola (Puhuja)
- Mikael Broas (Puhuja)
- Timo Sajavaara (Puhuja)
- Paulasto-Kröckel, M. (Puhuja)
- Lipsanen, H. (Puhuja)
- Franssila, S. (Puhuja)
Aktiviteetti: Konferenssiesitelmä