Atomic layer deposition of AlN from AlCl3 using NH3 and Ar/NH3 plasma as co-reactant

Aktiviteetti: Konferenssiesitelmä

Aikajakso15 heinäk. 201718 heinäk. 2017
Tapahtuman otsikkoInternational Conference on Atomic Layer Deposition
Tapahtuman tyyppiConference
Konferenssinumero17
SijaintiDenver, Colorado, YhdysvallatNäytä kartalla